Бөөнөөр CVD SiC цагираг

Богино тайлбар:

Бөөн CVD SiC цагираг нь цахиурын эх үүсвэрийн хий (цахиур гидрид гэх мэт) болон нүүрстөрөгчийн эх үүсвэрийн хий (метан гэх мэт) -ийг түүхий эд болгон ашигладаг бөгөөд өндөр температурт урвалд орж, том хэмжээтэй SiC материалыг субстрат эсвэл хөгц дээр байрлуулна. Энэ процесс нь SiC-ийг том талбайд жигд хуримтлуулж, бат бөх, тууштай цагирагийн бүтцийг бүрдүүлдэг.

Бидэн рүү имэйл илгээнэ үү

Бүтээгдэхүүний дэлгэрэнгүй

Бүтээгдэхүүний шошго

Цахиурын карбидын сийлбэр бөгж яагаад байдаг вэ?

RTPCVD SiC цагирагөндөр температур, идэмхий орчинд үйлдвэрлэл, шинжлэх ухааны салбарт өргөн хэрэглэгддэг. Энэ нь хагас дамжуулагч үйлдвэрлэл, оптоэлектроник, нарийн машин, химийн үйлдвэрлэлд чухал үүрэг гүйцэтгэдэг. Тусгай хэрэглээнд:

1. Хагас дамжуулагчийн үйлдвэрлэл:RTP CVD SiC цагирагХагас дамжуулагч төхөөрөмжийг халаах, хөргөхөд ашиглаж, температурын тогтвортой хяналтыг хангаж, процессын нарийвчлал, тууштай байдлыг хангах боломжтой.

2. Оптоэлектроник: Маш сайн дулаан дамжуулалт, өндөр температурт тэсвэртэй учраас RTPCVD SiC цагираглазер, шилэн кабелийн холбооны тоног төхөөрөмж, оптик эд ангиудыг дэмжих, дулаан ялгаруулах материал болгон ашиглаж болно.

3. Нарийвчилсан машин механизм: RTP CVD SiC цагираг нь өндөр температурт зуух, вакуум төхөөрөмж, химийн реактор зэрэг өндөр температур, идэмхий орчинд нарийн багаж, тоног төхөөрөмжид ашиглагдаж болно.

4. Химийн үйлдвэр: Зэврэлтэнд тэсвэртэй, химийн тогтвортой байдлын улмаас RTP CVD SiC цагирагыг химийн урвал, катализаторын процесст сав, хоолой, реакторт ашиглаж болно.

Эпи систем

RTP систем

CVD систем

Бүтээгдэхүүний гүйцэтгэл:

1. 28нм-ээс доош үйл явцтай танилцах

2. Супер зэврэлтэнд тэсвэртэй

3. Супер цэвэр гүйцэтгэл

4. Супер хатуулаг

5. Өндөр нягтралтай

6. Өндөр температурт тэсвэртэй

7. Элэгдэлд тэсвэртэй

Бүтээгдэхүүний хэрэглээ:

Цахиурын карбид материал нь өндөр хатуулаг, элэгдэлд тэсвэртэй, зэврэлтэнд тэсвэртэй, өндөр температурт тогтвортой байдлын шинж чанартай байдаг. Маш сайн иж бүрэн гүйцэтгэлтэй бүтээгдэхүүнийг хуурай сийлбэр болон TF/Diffusion процесст өргөн ашигладаг.