Semicera Semicera нь төрөл бүрийн эд анги, тээвэрлэгчдэд зориулсан тусгай тантал карбидын (TaC) бүрээсээр хангадаг.Semicera Semicera тэргүүлэгч бүрэх процесс нь тантал карбидын (TaC) бүрээсийг өндөр цэвэршилт, өндөр температурт тогтвортой байдал, химийн өндөр тэсвэрлэх чадварыг бий болгож, SIC/GAN талстууд болон EPI давхаргын бүтээгдэхүүний чанарыг сайжруулдаг.Графитаар бүрсэн TaC мэдрэгч), реакторын гол бүрэлдэхүүн хэсгүүдийн ашиглалтын хугацааг уртасгах.Тантал карбидын TaC бүрээсийг ашиглах нь ирмэгийн асуудлыг шийдэж, болор ургалтын чанарыг сайжруулахад чиглэгддэг бөгөөд Semicera Semicera нь тантал карбидын бүрэх технологийг (CVD) ололт амжилтаар шийдэж, олон улсын дэвшилтэт түвшинд хүрсэн.
Олон жилийн хөгжлийн дараа Semicera технологийг байлдан дагуулавCVD TaCR&D хэлтсийн хамтарсан хүчин чармайлтаар.SiC өрмөнцөрийн өсөлтийн явцад гэмтэл гарахад хялбар байдаг боловч хэрэглэсний дарааTaC, ялгаа нь мэдэгдэхүйц юм.Доорх нь TaC-тай ба байхгүй вафель, мөн дан болор өсөлтийн хувьд Simicera-ийн хэсгүүдийн харьцуулалтыг үзүүлэв.
TaC-тай ба үгүй
TaC хэрэглэсний дараа (баруун)
Түүнчлэн Semicera-ийн TaC бүрэх бүтээгдэхүүний ашиглалтын хугацаа нь SiC бүрээстэй харьцуулахад илүү урт бөгөөд өндөр температурт тэсвэртэй байдаг.Лабораторийн хэмжилтийн өгөгдлүүдийн урт хугацааны дараа манай TaC нь хамгийн ихдээ 2300 градусын температурт удаан хугацаанд ажиллах боломжтой.Дараах нь бидний зарим жишээ юм:
(a) PVT аргаар SiC нэг талст ембүү ургуулах төхөөрөмжийн бүдүүвч диаграм (б) Дээд TaC бүрсэн үрийн хаалт (SiC үрийг оруулаад) (в) TAC бүрсэн бал чулуу чиглүүлэгч цагираг
-
Хагас дамжуулагч цахиурын карбид хавтан байж болно...
-
Semi-ceras Barrel Reactor: Инновацийг жолоодох i...
-
Өндөр температурт SiC бүрсэн эпитаксиаль реактор Б...
-
Исэлдэлтийн эсрэг өндөр цэвэршилттэй SiC бүрсэн MOCVD тавиур
-
Захиалгат хагас дамжуулагч ICP тавиур (сийлбэр)
-
Цахиурын карбидын бүрээстэй графит шингээгч...