голчлон гель-зол арга, суулгах арга, сойз бүрэх арга, плазмаар цацах арга, химийн хийн урвалын арга (CVR) болон химийн уурын хуримтлуулах арга (CVD) орно.
Энэ арга нь өндөр температурт хатуу фазын агломержуулалтын нэг төрөл бөгөөд голчлон Si нунтаг ба С нунтаг холимгийг шингээх нунтаг болгон ашигладаг, бал чулуун матрицыг уусгах нунтаг болгон байрлуулж, өндөр температурт синтерингийг инертийн хийд хийдэг. , and finally theПроцесс нь энгийн бөгөөд бүрэх, субстратын хоорондох хослол нь сайн, гэхдээ зузаан чиглүүлэгчийн хоорондох зай нь ядуу, гэхдээ илүү их нүх гаргах нь маш сайн нүх бөгөөд exidation Excormation-ыг суллахад хялбар байдаг.
Сойзоор бүрэх арга:
The process is simple and the cost is low, but the coating prepared by brush coating method is weak in combination with the substrate, the coating uniformity is poor, the coating is thin and the oxidation resistance is low, and other methods are needed to assist тэр.
Плазмын шүрших арга:
Плазмаар шүрших арга нь голчлон хайлсан эсвэл хагас хайлсан түүхий эдийг плазмын буугаар бал чулууны матрицын гадаргуу дээр цацаж, дараа нь хатууруулж, наалдсан бүрхүүл үүсгэдэг.
Si, SiO2 нунтаг ашиглан өндөр температурт SiO уур үүсгэх ба C материалын субстратын гадаргуу дээр хэд хэдэн химийн урвал явагдана.TheЭнэ аргаар бэлтгэсэн материал нь субстраттай нягт холбоотой боловч урвалын температур өндөр, өртөг нь өндөр байдаг.
субстратын гадаргуу дээр.The SiC coating prepared by CVD technology is closely bonded to the surface of the substrate, which can effectively improve the oxidation resistance and ablative resistance of the substrate material, but the deposition time of this method is longer, and the reaction gas has a certain toxic натур хийх.
Шуудангийн цаг: 2023 оны 11-р сарын 06-ны өдөр