Хагас дамжуулагч цахиурт суурилсан GaN эпитакси

Богино тайлбар:

Semicera Energy Technology Co., Ltd нь дэвшилтэт хагас дамжуулагч керамикийн тэргүүлэгч нийлүүлэгч бөгөөд өндөр цэвэршилттэй цахиур карбидын керамик (ялангуяа дахин талстжуулсан SiC) болон CVD SiC бүрээсийг нэгэн зэрэг хангаж чаддаг Хятад дахь цорын ганц үйлдвэрлэгч юм. Нэмж дурдахад манай компани нь хөнгөн цагааны исэл, хөнгөн цагаан нитрид, циркон, цахиурын нитрид гэх мэт керамик талбайнуудад ихээхэн анхаарал хандуулдаг.

 

Бүтээгдэхүүний дэлгэрэнгүй

Бүтээгдэхүүний шошго

Цахиурт суурилсан GaN эпитакси

Бүтээгдэхүүний тодорхойлолт

Манай компани нь бал чулуу, керамик болон бусад материалын гадаргуу дээр CVD аргаар SiC бүрэх үйл явцын үйлчилгээг үзүүлдэг бөгөөд ингэснээр нүүрстөрөгч, цахиур агуулсан тусгай хий нь өндөр температурт урвалд орж, бүрсэн материалын гадаргуу дээр өндөр цэвэршилттэй SiC молекул, молекулыг гаргаж авах, SIC хамгаалалтын давхарга үүсгэдэг.

Гол онцлогууд:

1. Өндөр температурт исэлдэлтийн эсэргүүцэл:

1600 С хүртэл өндөр температурт исэлдэлтийн эсэргүүцэл маш сайн хэвээр байна.

2. Өндөр цэвэршилт: өндөр температурт хлоржуулах нөхцөлд химийн уурын хуримтлалаар хийгдсэн.

3. Элэгдлийн эсэргүүцэл: өндөр хатуулаг, нягт гадаргуу, нарийн ширхэгтэй тоосонцор.

4. Зэврэлтэнд тэсвэртэй: хүчил, шүлт, давс, органик урвалж.

CVD-SIC бүрхүүлийн үндсэн үзүүлэлтүүд

SiC-CVD шинж чанарууд

Кристал бүтэц

FCC β үе шат

Нягт

г/см³

3.21

Хатуу байдал

Викерсийн хатуулаг

2500

Үр тарианы хэмжээ

мкм

2~10

Химийн цэвэр байдал

%

99.99995

Дулааны багтаамж

Ж·кг-1 ·К-1

640

Сублимацийн температур

2700

Уян эрхтний хүч

МПа (RT 4 оноо)

415

Young's modulus

Gpa (4pt нугалах, 1300℃)

430

Дулааны тэлэлт (CTE)

10-6К-1

4.5

Дулаан дамжилтын илтгэлцүүр

(Вт/мК)

300

Semicera Ажлын байр
Хагас ажлын байр 2
Тоног төхөөрөмжийн машин
CNN боловсруулах, химийн цэвэрлэгээ, CVD бүрэх
Манай үйлчилгээ

  • Өмнөх:
  • Дараа нь: